2013年PSMA研讨会摘要
October 25, 2012

"硅器件正在撤退 -- 氮化镓器件成为主流"
讲者: 宜普电源转换公司首席执行官Alex Lidow博士
 

在商用直流-直流应用中,氮化镓器件替代功率MOSFET器件已经有三年时间。此后,这种技术备受重视,其开发及商用化的步伐不断加快。我们看到全新产品的发布,而新产品的预报更多。硅器件正在撤退。在这个专题演讲中,我们将讨论氮化镓技术的进展、全新及意想不到的重点应用、已经推出市场的最新产品及产品发展的最新消息。  

演讲者

Alex Lidow现为宜普电源转换公司的首席执行官。在创办宜普公司之前,Lidow博士为国际整流器公司的首席执行官。Lidow博士是HEXFET功率MOSFET的共同发明者,并拥有许多功率半导体技术的专利权及发表了许多关于这些技术的著作,包括最新出版的「氮化镓晶体管--高效功率转换器件」教科书。Lidow博士在一九七五年获得美国加利福尼亚理工学院理学士学位,并于一九七七年获得斯坦福大学应用物理博士学位。