在超过四十年中，随着功率MOSFET器件的结构、技术和电路拓扑的创新，可满足不断增长的电力需求，因此改善了电源管理的效率和成本。 然而，在这新世纪的发展，随着硅功率MOSFET器件已经接近其理论极限，其改进速度已大为减慢。 与此同时，一种全新材料 - 氮化镓（GaN）- 正朝着新的理论性能领域的方向，稳步发展，其性能是老化的MOSFET器件的6,000倍，以及是目前市场的最优越GaN器件的300倍。

EETimes
2020年6月
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