EPC的GaN FET是建立在GaN外延层上的横向器件,活性器件区域与支持的Si基板之间有隔离层。
具有不同最大电压承受能力的小信号FET器件(从5V到100V FET)可以与电阻和电容等无源器件集成在同一芯片上。这形成了与GaN输出器件集成的有用电路的基本平台。
输出器件可以配置为半桥或其他拓扑结构。最重要的是,集成电路平台上的GaN输出器件与离散的GaN FET在性能指标上没有妥协。
传统的Si MOSFET结构是垂直导电的,称为VDMOS,不容易与小信号CMOS或双极性器件集成。
BDCMOS集成电路平台通常需要非常高的掩模数量来集成所有器件,而且输出的VDMOS器件效率低于优化的离散对应器件。
低电压单片BCD平台(小于40V)使用LDMOS,以便更容易地集成并具有可接受的性能。然而,两个BCD平台都存在基板电流导电问题,可能导致锁存。需要特殊的布局技术或使用昂贵的SOI结构来隔离输出FET,特别是在二极管导通期间。由于GaN FET没有寄生二极管,因此不太担心寄生基板电流导电。