雲計算、可穿戴設備、機器學習、自動駕駛和物聯網等應用的擴展實現了更加數據密集的世界、對資料中心的需求更大和功耗隨之而增加。交流到直流的開關電源的效率、功率密度和成本非常重要,從而推動了對GaN FET解決方案的需求,以實現具有超高效率的PFC前端整流器解決方案。
由於Titanium 80+的效率要求加速了要求最高功率密度的發展趨勢,因此面向資料中心供電的圖騰柱PFC逐漸普遍。氮化鎵技術的快速開關在不影響PFC設計效率的情況下提高了功率密度。
氮化鎵場效應電晶體和IC還能提高DC/DC電源轉換400 V匯流排電壓爲48 V或12 V的效率和縮小尺寸。在次級側、同步整流電路中,氮化鎵場效應電晶體可以提供更低的閘極驅動和傳導損耗、零反向恢復(QRR)、更高的開關頻率,而且尺寸僅爲MOSFET解決方案的1/15。氮化鎵場效應電晶體的並聯能力比矽的同類產品更好,以實現更高的功率和可靠性。氮化鎵場效應電晶體和IC還具有出色的熱性能。
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