氮化鎵技術將改寫未來

Posted 2015年1月21日

60年以來業界首次見證全新的半導體技術以更低的成本製造出比矽元件具備更高的性能的電晶體。氮化鎵（GaN）技術展示了它顯著提升了電晶體的性能之外，氮化鎵元件的製造成本比矽元件可以更低。由於氮化鎵電晶體具備快速開關特性，在高壓及大電流工作時它比任何前代的電晶體都更為優越，支援開發全新的應用。這些特性非常優越，可推動全新並改寫未來的應用的出現。但是氮化鎵技術的發展還是剛剛開始，它的發展前景將無可限量。