氮化鎵場效應電晶體與矽功率器件比拼第十一部分:優化場效應電晶體的導通電阻 Posted 2012年10月1日 作者:宜普公司應用副總裁Johan Strydom博士 雜誌:Power Electronics Technology 摘要: 在這一系列的文章中,我們展示了與矽MOSFET相比,氮化鎵場效應晶體在硬開關及軟開關應用中它在性能方面的改善。我們看到在所討論的每一個情況下,氮化鎵場效應電晶體的性能比MOSFET器件更為優越。第十一部分討論了晶片尺寸的優化工藝,並使用一個應用範例來展示其結果。 閱讀全文 相關的熱門文章 基於GaN技術的各種應用:決定功率管理市場的下一步走勢 APEC 2017:GaN技術已經準備好,即將改變我們的生活方式 針對伺服器應用的新興技術 - 六大熱門趨勢 Rethinking Server Power Architecture in a Post-Silicon World How To GaN: Paralleling High Speed eGaN FETS for High Current Applications