在超過四十年中，隨著功率MOSFET元件的結構、技術和電路拓撲的創新，可滿足不斷增長的電力需求，因此改善了電源管理的效率和成本。 然而，在這新世紀的發展，隨著矽功率MOSFET元件已經接近其理論極限，其改進速度已大為減慢。 與此同時，一種全新材料 - 氮化鎵（GaN）- 正朝著新的理論性能領域的方向，穩步發展，其性能是老化的MOSFET元件的6,000倍，以及是目前市場的最優越GaN元件的300倍。

EETimes
2020年6月
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