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Electronic Design雜誌編輯Don Tuite訪問Alex Lidow,內容涵蓋EPC公司的氮化鎵場效應電晶體(eGaN FET)的最新及新穎應用。
Electronic Design雜誌
2014年3月
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在EEWeb Pulse 訪問裡,宜普公司首席執行長Alex Lidow討論如何推動氮化鎵器件的廣泛應用。
EEWeb Pulse
日期:2013年6月
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研討會: 在2012年2月9日舉行的電力電子應用技術研討會(APEC)
演講者: Alex Lidow博士
內容: Lidow博士是電源轉換公司首席執行長,為這家公司的共同創辦人及現有 HEXFET功率MOSFET技術的共同發明者之一。Lidow博士將在這個研討會和 工程師討論增强型氮化鎵場效應電晶體(eGaN FET)如何在尺寸和器件表現方 面比矽功率MOSFET卓越很多。
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Alex Lidow is interviewed by ECN's Editorial Director, Alix Paultre, on the Tinker's Toolbox, ECN's audio interview website. The interview explores the attributes of GaN technology, applications opened as a result of GaN's superior performance to MOSFETs and reasons for the take-up of eGaN FET products over the past year.
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MOSFET、IGBT可以休矣,即将成为过去,在这个250亿美元的市场取而代之的将是GaN功率器件——这是EPC首席执行官Alex Lidow日前在接受EDN China专访时的说法。Lidow博士之前在IR担任了12年CEO,在2007年他创立了宜普电源转换公司(Efficient Power Conversion Corporation,EPC),他在斯坦福大学的博士论文就是关于HEXFET功率MOSFET的,是相关专利的发明者之一。在HEXFET专利过期之前,相关版税已超过9亿美元。
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