與傳統矽基電晶體相比,氮化鎵高電子遷移率電晶體(GaN HEMT)具有多項基本優勢。GaN HEMT具有非常高的電子遷移率,無論是在開關速度、耐高溫和功率處理能力方面都表現卓越。這些獨特的屬性可提高效率、顯著縮小尺寸、降低重量、提高成本效益和增强熱性能。
有關EPC的氮化鎵技術的更多信息,請下載我們的《技術簡介》。 有關使用氮化鎵元件的更多信息,請下載《面向功率應用的氮化鎵元件的基礎知識》和《面向功率應用的氮化鎵元件的設計技巧》電子書。
0 V - 40 V
41 V - 100 V
101 V - 350 V
汽車應用
資料中心
工業應用
航空航天
消費電子
醫療應用技術
通信
使用我們的交互式參數選擇工具來找出最適合您的功率轉換系統的eGaN®解決方案。
點擊這裡參看組裝器件技巧指南及詳情
我們的 GaN HEMT電晶體具有出色的動態導通電阻和最小電容,專為需要高速開關的應用而設計。EPC的HEMT元件具有更短的死區時間以實現更高的效率。您可體驗我們的HEMT電晶體的可靠性,它在實驗室和大批量客戶應用測試中展示出具有高穩健性。eGaN元件擁有卓越的現場可靠性測試記錄。